DUV/VIS/NIR光譜型橢偏儀SE800DUV
名稱：物性分析測試儀器
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簡介：簡單信息： SE800DUV深紫外主要用于研究超薄膜、表面粗糙度，并可研究溫度、應力、張力、摻雜、組份、晶態等對材料禁帶寬度的影響；深紫外也可研究AlGaN, AlN等寬禁帶材料，測量膜厚0-10nm。可見光可測量折射率梯度。選件請參考SE...
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- 產品介紹
簡單信息： SE800DUV深紫外主要用于研究超薄膜、表面粗糙度，并可研究溫度、應力、張力、摻雜、組份、晶態等對材料禁帶寬度的影響；深紫外也可研究AlGaN, AlN等寬禁帶材料，測量膜厚0-10nm。可見光可測量折射率梯度。選件請參考SE800選件。
光譜范圍: 190 nm - 950 nm
SE 800 DUV 針對要求苛刻的應用而設計，如玻璃上的極薄透明膜，平板印刷中的光刻膠材料和減反射膜，透明或吸收基底上的多層膜，高級微電子應用比如SOI，ONOPO和高k值材料。各向異性材料和非均勻樣品也能夠被分析。
SE 800DUV 是基于在紫外-可見光-近紅外波段的快速二極管陣列探測器高性能光譜橢偏儀，能夠快速獲得數據并在全波段解析，配置了高精度延遲器和電腦控制起偏器。SE 800DUV基于步進掃描分析操作原理。分析器由光柵和光電二極管陣列組成。
SE 800DUV的深紫外概念被設計針對低散射光線，對低反射樣品也有很高靈敏度。
主要應用
·測量單層膜或多層膜的厚度和折射率。
·測量化合物薄膜，比如SiOxNy, AlGaN
·在紫外-可見光-近紅外波段測量材料的光學性質
·測量指數梯度
·測量膜表面和界面間粗糙程度
·確定材料成分
·分析較厚的膜，厚度范圍可到30微米
·適合測量In攙雜半導體材料 (InP, InGaAs, InGaAlAs, InN)
選項
·紫外光譜擴展選項，280 - 850 nm
·近紅外光譜擴展選項，1700 - 2300 nm
·電腦控制高性能消色差補償器，針對紫外-可見光波段
·電腦控制起偏器
·電腦控制自動角度計, 40º-90º, 精度0.01º
·手動x-y載物臺，150 mm行程
·電機驅動x-y載物臺，行程50 mm - 200 mm, SENTECH地貌圖掃描軟件
·透射測量樣品夾具
·攝象頭選項，用于樣品校準和表面監測
·液體膜測量單元
·反射式膜厚儀 FTPadvanced, 光斑直徑80 mm
·微細光斑選項
·自動對覺選項，結合地貌圖掃描選項
·SENTECH 標準樣片
·附加許可，使 SpectrRay II 軟件可以用于多臺電腦
光譜橢偏儀軟件SpectraRay II
SpectraRay II 操作軟件基于windows系統，包括全面的的建模、仿真和擬合軟件包，操作向導，自動輸出結果，單鍵操作，使軟件界面友好并使橢偏儀操作簡易。
通過操作向導，能夠使操作變得簡單。操作向導能夠指導用戶完成標準測量過程：測量數據、驚醒擬合并輸出結果。 操作向導能夠將復雜的測量、擬合設置變德簡易。
SpectraRay II 軟件也能夠進行反射光譜測量和透射光譜測量。
報告向導能夠自動完成將測量結果輸出到一個web文件。
商品名稱： DUV/VIS/NIR光譜型橢偏儀
商品型號： SE800DUV
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