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Autosorb-iQ-C全自動物理/化學(xué)吸附分析儀
名稱：物性分析測試儀器
品牌：
型號：
簡介：Autosorb－iQ－C系列是世界上唯一的物理吸附/化學(xué)吸附動靜態(tài)二合一的催化劑全表征系統(tǒng)，可根據(jù)用戶實際功能需要靈活組合。第一次實現(xiàn)了從原位真空脫氣，到靜態(tài)化學(xué)吸附，再到程序升溫脫附的計算機全控制。用戶僅需要按照實驗需要，根據(jù)實驗順序進...
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- 產(chǎn)品介紹
Autosorb－iQ－C系列是世界上唯一的物理吸附/化學(xué)吸附動靜態(tài)二合一的催化劑全表征系統(tǒng)，可根據(jù)用戶實際功能需要靈活組合。第一次實現(xiàn)了從原位真空脫氣，到靜態(tài)化學(xué)吸附，再到程序升溫脫附的計算機全控制。用戶僅需要按照實驗需要，根據(jù)實驗順序進行樣品處理，氣體切換，流量控制，壓力點測定，程序升溫，高溫爐強制風(fēng)冷等全過程化學(xué)吸附實驗的自動化進行。根據(jù)需要，可同時進行兩個樣品的物理吸附測定，包括微孔分析。采用數(shù)字壓力傳感器，金屬密封連接技術(shù)，使真空度大大提高，微孔樣品測試時間節(jié)約了三分之一左右。
Autosorb－iQ－C可由計算機進行遠程控制操作和數(shù)據(jù)傳輸。Autosorb-iQ-C是世界第一臺動態(tài)/靜態(tài)二合一的全自動物理/化學(xué)吸附分析儀(即催化劑全分析系統(tǒng))。它結(jié)合高靈敏熱導(dǎo)檢測器（TCD），可進行全自動動態(tài)或靜態(tài)化學(xué)吸附，表面積及孔隙度分析,，是唯一能實現(xiàn)原位真空脫氣并進行全化學(xué)吸附分析的儀器。
Autosorb－iQ－C技術(shù)參數(shù)：
該分析儀是全自動運行，能進行真空體積測定，氣體物理和化學(xué)吸附測定的系統(tǒng)，它具有高氣流通過率，費用低廉，能在測定一個樣品的同時，獨立地對另外兩個樣品進行脫氣操作。該系統(tǒng)可以用于全面地測定具有微孔的物質(zhì)（如沸石，活性炭等）的特性。該系統(tǒng)產(chǎn)生所需要的吸附和脫附數(shù)據(jù)，用于確定并給出所有的表面積和如下面條目中所列的有關(guān)參數(shù)。該系統(tǒng)能為化學(xué)吸附做就地的樣品準(zhǔn)備，并自動進行化學(xué)吸附測定，表達樣品的催化特性。
1. 等溫線：用戶可以在指定的目標(biāo)壓力選擇數(shù)據(jù)點的個數(shù)。
2. BET比表面積：單點，多點，斜率，截取，常數(shù) "C" ，相關(guān)系數(shù)。
朗莫爾表面積：多點，斜率，截取，相關(guān)系數(shù)。
3. BJH 孔徑分布：體積，面積，吸附，脫附，累積，推導(dǎo)（線性化和取對數(shù)），插值。
4. Dollimore-Heal 孔徑分布：體積，面積，吸附，脫附，累積，推導(dǎo)：（線性化和取對數(shù)）。
5. Dubinin-Radushkevich 微孔面積：斜率，截取，相關(guān)系數(shù)，平均孔徑，微孔體積，平均吸附能。
6. 總孔體積：由用戶選取可選的 P/P0
7. 平均孔徑：半徑，直徑。
8. 統(tǒng)計壁厚（t-曲線）：de Boer， Halsey或碳黑模型
9. t法：微孔表面積，中孔表面積，微孔體積，相關(guān)系數(shù)。
10. 微孔孔徑分布： MP, HK, SF, DA, 密度函數(shù)理論（NLDFT )
11. 分形維數(shù)：Neimark-Kiselev (NK), Frenkel-Halsey-Hill (FHH)
12． 化學(xué)吸附等溫曲線：合成的（第一個），弱吸附的（可重復(fù)的）和強吸附的（差值）等溫曲線和輪廓。
13． 單層覆蓋的外推：Langmuir, Tempkin, Freundlich,分類。
14． 對于活動性（金屬）表面，用戶可以選擇化學(xué)計量法和金屬表面。
15． 金屬分散度（百分比）。
16． 平均晶粒尺寸（對于粒狀物質(zhì)）
17． 吸附熱（總體的和分別的）
18． TPD/TPR/TPO (選件，與質(zhì)譜或ＴＣＤ連接)
Autosorb－iQ－C主要特點：
-流動態(tài)程序升溫，進行TPD/TPR/DPO測量，脈沖滴定法分析催化劑特性（活化面積，金屬分散作用等）
-化學(xué)吸附等溫線的測量及分析單分子層覆蓋量，活性（金屬）表面分散度，平均微晶粒尺寸，吸附熱等
-動態(tài)程序升溫與化學(xué)吸附等溫線的測量無縫對接，全面表征催化劑特性
-表面積和孔隙度等物理吸附全分析能力, 能對分子篩、活性碳、二氧化硅等完成超低壓氣體吸附分析以測定其微孔分布特性及介孔孔徑分布
-流動或真空條件下現(xiàn)場樣品制備
-高溫預(yù)處理爐（1100 C）和全程序化氣體轉(zhuǎn)換及溫度爬升，具有最大的多功能性，滿足各種實驗需求
-可與質(zhì)譜聯(lián)用，質(zhì)譜檢測器可與TCD一起同時進行TPR/TPD測定，完成催化劑活性的定性和定量分析
-可內(nèi)置蒸汽發(fā)生器
-采用隔膜泵及空氣冷卻免維護內(nèi)置分子泵，真空度達10-10mmHg。質(zhì)譜檢測器共享儀器真空系統(tǒng)極大地降低了用戶使用成本
-從真空靜態(tài)分析轉(zhuǎn)換至程序升溫流動法TCD分析僅不到1分鐘
-無論真空體積測量，還是流動法TCD測量模式，均在Windows 平臺上進行數(shù)據(jù)采集
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